Sistema de tratamiento de solventes NMP para filtrar los gases de escape en el proceso de recubrimiento

Sistema de tratamiento de disolventes NMP para filtrar los gases de escape en el proceso de recubrimiento
 
Breve introducción
 
Se aplica principalmente para el tratamiento de filtración del disolvente en los gases de escape generados durante el proceso de secado de la máquina de recubrimiento,y consigue los efectos de eliminación de polvo y purificación de gases de escape.
 
Características clave
 
● Con función de tiempo de trabajo, se activa la alarma automática al finalizar el tiempo de funcionamiento.
● El equipo tiene un diseño a prueba de explosiones, que es bastante seguro.
● El equipo posee una unidad de tratamiento de baño de agua de tres etapas, que es eficaz para el reciclaje de NMP y polvo.
● El equipo adopta el principio del baño de agua para filtrar y tratar el disolvente del tipo de gas de escape NMP producido durante el proceso de secado de la máquina de recubrimiento.
● El equipo está equipado con un soplador, que es capaz de autoabsorción activa de la entrada de aire, y puede añadirse directamente al agua del grifo para su uso, la operación es simple.
● Todo acero inoxidable es excelente para resistir la corrosión y se puede instalar tanto para uso interior como exterior.
 
Parámetro técnico
 

Garantización:

1 año de garantía con soporte vital.

Preguntas frecuentes

1¿Es usted un fabricante?

R: Sí, nuestra fábrica está ubicada en Shenzhen, China.
Tenemos más de 10 años de experiencia en la fabricación de equipos de investigación de laboratorio de baterías.

2¿Acepta productos personalizados?
R: Sí. La mayoría de nuestros productos pueden ser personalizados para satisfacer diferentes requisitos.

3¿Proporcionará un video de prueba antes de su envío?
R: Sí, tomamos un video de prueba para cada equipo antes del envío, que mostrará cómo usarlo.

4¿Puede ofrecer servicio de instalación en el extranjero?
R: Sí, podemos enviar un ingeniero profesional para el servicio de instalación en el sitio.